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第436章 光刻机投入生产(2/2)

数据流,曝光能量、晶圆对准精度、光刻胶厚度、数值孔径、焦深参数……

    每一个数字都牵动着所有人的神经。

    "流片开始。"项目负责人周博远深吸一口气,按下了启动键。

    光刻机低沉地嗡鸣起来。

    极紫外光以13.5纳米的波长,透过精密反射镜组,一层一层地将电路图案蚀刻在硅片上。

    时间一分一秒地过去。

    实验室里安静得只剩下设备运转的嗡嗡声和偶尔的键盘敲击声。

    一个小时后。

    第一片晶圆完成。

    检测工程师赵琳将晶圆送入电子显微镜,开始逐区扫描检测。

    屏幕上,芯片电路的结构图像一层层展开,如同在放大镜下观察一片精密的微缩森林。

    赵琳的手指在键盘上飞快地敲击,统计着每一颗芯片的良品数据。

    十分钟后,赵琳抬起头。

    她的嘴唇微微颤了一下,"良品率……"赵琳声音有点发颤,"80.3%。"

    实验室里安静了两秒,然后——

    欢呼起来。

    "成了!"

    "80%!我们做到了!"

    "天哪,80.3%!第一轮流片就到了80%!"

    工程师们从座位上跳了起来,有人挥拳,有人鼓掌,有人紧紧拥抱在一起。

    周博远站在原地,两眼死死盯着屏幕上的数字,愣了好几秒,然后缓缓地摘下眼镜,用衣袖擦了一下眼角。

    80.3%。

    芯片行业,超先进制程(2/3/5纳米)初期良品率在50%到70%之间属于可接受范围,稳定量产需要达到80%以上。

    低于80%,意味着成本过高,难以盈利。

    而他们,第一轮流片,就直接冲过了80%的大关。

    这意味着什么?

    意味着这台光刻机不仅运转正常,而且状态极佳。

    意味着他们可以跳过漫长的良率爬坡阶段,直接进入量产准备。

    意味着华为,有了自己的5纳米芯片制造能力。

    周博远戴上眼镜,深吸了一口气,努力使自己平静下来:"通知总部,昆仑项目第一阶段目标达成,5纳米制程,良品率80.3%,具备量产条件。"
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